真空镀膜的真空度一般是多少?

真空镀膜需要在极高真空环境下进行，真空度通常达到10^-5至10^-6帕斯卡。这样的环境能减少气体分子干扰，确保镀层均匀致密。实际操作中，设备会先抽走大部分空气，再通过分子泵进一步降低气压，达到理想状态。不同材料镀膜对真空度要求略有差异，但高真空是基本条件。

镀膜质量直接受真空度影响，低于10^-4帕斯卡时，镀层易出现杂质或气泡。现代镀膜设备可稳定维持10^-6帕斯卡以上的真空度，满足精密工艺需求。玻璃、金属或塑料等基材镀膜前，都会经过严格真空处理，以保证镀层附着力与耐用性。真空度越高，镀膜效果越理想。