smee光刻机多少纳米?

smee光刻机能达到的工艺节点在90纳米到280纳米之间。这种光刻机主要用于成熟制程的芯片生产，比如功率器件、传感器和一些消费电子产品的制造。smee的光刻机在国产半导体设备中占据重要位置，为国内芯片产业链提供了关键支持。

smee光刻机的工作原理是通过紫外光将电路图案转移到硅片上。它的精度虽然不如顶级光刻机，但足以满足中低端芯片的需求。目前，国内有多家芯片厂商使用smee的设备，年产量可达数万片晶圆，有效缓解了部分芯片供应紧张的问题。